TSMC, 5nm 과정에서 "EUV 리소그래피"를 도입?
2015. 7. 23.
KitGuru는 21일, 대만 TSMC가 개발을 진행하고 있는 "5nm" 프로세스의 제조에 있어서, EUV 리소그래피(극단 자외선 노광) 기술을 이용할 전망이라고 전하고 있다. EUV를 이용한 리소 그래피 기술은, 미세화의 한계에 직면되고 있는 최근의 반도체 제조 기술의 "구세주"적인존재로서 주목을 끌어 온 방법이지만, 당초의 기대와는 정반대로, 현재 상태로 머무르고 있고, 실용화에는 이르지 못하고 있었다. 그러나 이번 TSMC의 대표 이사 마크 류 씨가 수지보고 회 장소에서 밝힌 바에 따르면, TSMC는 5nm 공정의생산에서 마침내 EUV 리소 그래피를 본격적으로 도입 할 계획이라는 것. 또한 "7nm" 프로세스의 제조에관해서는 종래 기술을 사용하여 수행하지만, EUV를 이용한 7nm 공정의 생산 테스..
